類別 | 內(nèi)容 |
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設(shè)備節(jié)拍 | 1600盤/天 |
產(chǎn)品良率 | ≧99.5% |
設(shè)備精度 | 晶圓片上下片重復(fù)定位精度可達(dá)到±0.15mm,±0.2度以內(nèi) |
設(shè)備尺寸 | L3.2m*W2.8m**H2.45m |
使用場景:PSS段ICP工藝生產(chǎn)后。
全自動:高度智能信息化系統(tǒng)可實現(xiàn)盤自動上料、盤尋邊、晶圓mapping、晶圓尋邊、Wafer ID讀取、自動下片、自動拆螺絲、自動下盤、Wafer ID與盤SN綁定LINK后上傳至MES。
高配置:CCD自動檢測、著名品牌工業(yè)機(jī)器人、全過程伺服控制系統(tǒng)、全過程智能檢測系統(tǒng)。
高精度:晶圓片上下片重復(fù)定位精度可達(dá)到±0.15mm,±0.2度以內(nèi)。
人性化:成熟先進(jìn)的自動控制技術(shù),增加智能監(jiān)控,智能語音提醒,既滿足工業(yè)生產(chǎn)也兼顧人因工程。